Fachkonferenz Digitalisierung 2025
am 27.5.2025 in Stuttgart
Entdecken Sie, wie führende Unternehmen erfolgreiche Digitalisierungsprojekte umgesetzt haben – und wie auch Sie diesen Weg gehen können.
Die Fachkonferenz Digitalisierung ist ein Event der Inneo Solutions GmbH.
Neben vielen weiteren interessanten Vorträgen namhafter Firmen stellt CFD Schuck zusammen mit der DAS Environmental Experts GmbH dieses Thema vor:
Emissionen in der Halbleiterindustrie senken durch effiziente CFD Simulation
Olaf Schütze
Director Research & Development Global, DAS Environmental Experts GmbH
Andreas Schuck
Geschäftsführer, CFD Schuck Ingenieurgesellschaft mbH
Bei der Produktion von Chips in der Halbleiterindustrie kommen chemische und physikalische Verfahren zum Einsatz, die verschiedene Emissionen erzeugen. Dazu gehören klimaschädliche PFCs (z. B. CF4) und Stickoxide (NOx). Diese Prozessabgase werden in die sogenannte Subfab, den Versorgungsbereich unterhalb des Reinraums, abgeleitet und dort in speziellen Point-of-Use Abgasbehandlungsanlagen gereinigt. Die Firma DAS Environmental Expert entwickelt und liefert weltweit solche Anlagen als Teil komplexer umwelttechnischer Lösungen.
Die Abgasbehandlung erfolgt meist mittels der Brenner-Wäscher-Technologie, wobei Erdgas die Hauptenergiequelle ist. Das größte Potenzial zur Emissionsreduzierung liegt in einer effektiven Verbrennung, die eine hohe Abgas-Zerstörungsrate bei geringem Energieaufwand erreicht. In Zusammenarbeit von CFD Schuck und DAS-EE werden maßgeschneiderte Simulationsverfahren aus Strömungsmechanik und Reaktionschemie eingesetzt, um diese Ziele zu erreichen.
Der Vortrag zeigt, wie Einsichten in das komplexe Verfahren der Abgasbehandlung gewonnen und konkrete Herangehensweisen identifiziert werden können, um bestehende Konzepte effizienter zu gestalten. Dabei wurden Modelle speziell für die Fragestellungen dieser Industrie entwickelt und mit Standardmodellen kombiniert, um schnelle, belastbare und experimentell validierte Ergebnisse zu liefern.
Die Teilnahme ist kostenlos.
